Optisk kalibreringsbräda används huvudsakligen i forskningsenheter eller speciella högprecisionskalibreringsverktyg inom synfältet, 3D-bildmätning, 3D reverse engineering, stereomatchning, 3D-rekonstruktion etc., främst genom kalibreringsmjukvaran för att få data om kamerakalibreringsresultat .
Upplösningstavlan används huvudsakligen vid bildkvalitetsutvärdering av olika optiska instrument och utrustning och är lämplig för bildkvalitetsutvärdering av olika maskinseendelinser och optiska komponenter.
Maskplattan används vanligtvis i tillverkningsprocessen för integrerade halvledarkretsar, som vanligtvis kräver flera litografiprocesser för att skära olika dopningsfönster, elektrodkontakthål på det dielektriska lagret av halvledarkristallytan eller etsa metallsammankopplingsmönster på det ledande lagret. Litografiprocessen kräver en komplett uppsättning (flera till mer än ett dussin stycken) av fotokopieringsmaskeringsfilmplattor med specifika geometriska mönster som kan registreras exakt med varandra.
Asfärisk CGH kan förenkla systemstrukturen och förbättra bildkvaliteten jämfört med sfärisk yta och används i stor utsträckning inom flyglaster, litografiska mål, konsumentoptiska system (VR) och andra områden.
Cylindriska speglar används ofta inom bildbehandling, strålformning och andra områden, såsom lidar- och VR-headset.
