Nyheter

I den invecklade världen av mikroelektroniktillverkning spelar fotomasker och wafers centrala roller, men de tjänar olika syften inom den bredare produktionsprocessen. Att förstå de grundläggande skillnaderna mellan dessa två kritiska komponenter är viktigt för att förstå komplexiteten i modern halvledartillverkning.

Inom området för precisionsmätning och instrumentering har den optiska glaslinjalen framstått som ett spelförändrande verktyg som tänjer på gränserna för noggrannhet och tillförlitlighet. Denna innovativa enhet utnyttjar den oöverträffade klarheten och dimensionsstabiliteten hos optiskt glas för att skapa en linjal som sätter nya standarder för linjäritet, repeterbarhet och hållbarhet.

Inom området för optiska bildsystem är den exakta bedömningen av ett instruments upplösningsförmåga avgörande. För att möta detta behov, utarbetade United States Air Force (USAF) ett banbrytande verktyg 1951 under MIL-STD-150A-standarden: 1951 USAF Resolution Test Chart. Denna mikroskopiska optiska upplösningstestenhet har sedan dess blivit ett allmänt riktmärke för att utvärdera klarheten och förmågan att fånga detaljer hos olika bildsystem.

Inom området för precisionsoptisk metrologi har datorgenererade hologram (CGH) dykt upp som kraftfulla verktyg för att testa och mäta komplexa optiska ytor. Bland dessa har CGH Cylinder Nulls fått stor uppmärksamhet för sin förmåga att noggrant utvärdera cylindriska ytor. Den här artikeln utforskar principerna, designen och tillämpningarna av CGH Cylinder Nulls, och betonar deras roll i att utveckla optiska testmöjligheter.

Datorgenererade hologram (CGH) har revolutionerat området för optisk testning, särskilt vid mätning av asfäriska ytor. Bland de olika CGH-teknikerna spelar CGH nollkorrigerare en avgörande roll för att säkerställa hög noggrannhet och tillförlitlighet. Den här artikeln fördjupar sig i principerna, designövervägandena och tillämpningarna av CGH nollkorrigerare, och betonar deras betydelse vid optisk precisionstestning.

Fotomasker, även kända helt enkelt som masker, är viktiga verktyg i produktionen av integrerade kretsar (IC) eller "chips". Dessa ogenomskinliga plattor med transparenta ytor som tillåter ljus att skina igenom i ett definierat mönster spelar en avgörande roll i fotolitografiprocessen, som är ett av nyckelstegen i halvledartillverkning. I den här artikeln kommer vi att utforska hur fotomasker används i produktionen av IC:er.